INFICON HP100氣體分析儀基于自等離子體光發射光譜技術（SPOES），旨在提供半導體制造過程中的實時泄漏檢測、端點檢測和過程監控。 HP100具有出色的靈敏度，外形緊湊，提供寬廣的操作壓力范圍，無需昂貴的泵，因此非常適合大多數半導體工具的過程監控和保護。
特點
氬氣的操作范圍為1 Torr - 450 Torr，氮氣的操作范圍為1 Torr - 120 Torr（其他氣體種類則有所不同）
低檢測限<1 ppm
使用標準KF25連接，安裝方便
快速采樣（大20赫茲）
占地面積?。ǜ選寬x長）：6.4 x 6.0 x 8.3 in. [162 x 153 x 210 mm］
低維護，不需要泵或消耗品
方便的現場可更換的等離子池
為您的特殊工藝需求提供全球專家支持
規格
| 操作壓力 | 1 Torr - 450 Torr (取決于應用) |
| 光譜儀性能 | 200至850納米波長（紫外-可見光） 16位全尺度分辨率，3648像素 |
| 檢測極限 | < 1 ppm (取決于應用) |
| 曝光時間 | 少1毫秒 |
| 真空配件 | KF25 |