NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機：先進的全自動濺射系統帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過使用RF射頻開關，RF射頻或DC直流電源可以切換到多磁控管模式。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機產品特點：
· 不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
· 70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
· 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
· 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
· 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
· 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
· 帶密碼保護功能的多級訪問控制
· 完全的安全聯鎖
選配項：
· 向上、向下或側面濺射
· RF、DC以及脈沖DC濺射
· 共濺射、反應濺射
· 組合濺射
· RF或DC偏壓（1000V）
· 樣品臺可加熱到700°C
· 膜厚監測儀
· 基片的RF射頻等離子清洗
· 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
應用：
· 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
· 光學以及ITO涂覆
· 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
· 帶RF射頻等離子放電的反應濺射
型號：
· NSC-4000：基于PC計算機全自動控制的獨立式系統
· NSC-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統
· NSC-3000：PC計算機全自動控制的臺式系統
· NSC-1000：半自動控制的臺式系統
(以下為雙系統型號)
· NSR-4000：濺射/RIE系統
· NSP-4000：濺射/PECVD系統
· NST-4000：濺射/熱蒸發系統
我公司主要經營各類真空鍍膜微納加工設備，包括薄膜沉積、刻蝕及清洗去膠設備等（ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，熱真空試驗，晶圓清洗機，PA-MOCVD）