3．1 辦公區
應在每個樓層集中設置，便于學習和探討工作中出現的問題，民用配電即可。
3．2 報告編制區
用于檢測結果的輸入、檢測報告的編制及審核，滿足辦公用電需求即可。
3．3 收樣及樣品儲存區該區域必須干燥、通風、防塵。樣品分為待檢、在檢、已檢3類，各存儲柜應標明收樣及檢測日期。
3．4 樣品處理區和化學濕法分析區
樣品處理區域在實驗過程中會產生大量的有毒有害、有刺激氣味的氣體，故必須有獨立排風設施通風柜；一般為單獨的房間，地面應有地漏；墻面、地板、實驗臺和試劑柜等要絕緣、耐熱、耐酸堿和耐有機溶劑腐蝕；放置中央實驗臺的實驗室應預設供實驗臺用的上下水裝置和足夠的電源插座。鑒于化學分析需要用到大量的強腐蝕性藥品，建議通風柜內部特殊定制耐500℃高溫且耐酸堿的陶瓷內襯及耐腐蝕的PP內襯。
3．5 儀器分析區
該區域主要設備一般有等離子體質譜、發射光譜、碳硫氧氮氫分析、X光譜、原子吸收、氣相液相色譜、極譜、原子熒光、電鏡、wanneng試驗機等設備及配套穩壓電源和水循環系統。各類儀器設備具有精度高、運行條件苛刻、耗材昂貴、部件損壞維修難度大、維修費用高等特點，決定了該區域應為單獨房間且空間不宜過小，盡量鋪設防靜電地板，互有干擾的儀器不能放在同一房間。該區域要求一定的潔凈度（可設置緩沖間）、溫濕度（溫度18～25℃，相對濕度60%～80%）、防震防輻射、獨立用電、獨立接地（電阻不大于1 Ω）等。設備放置距離墻體60～80 cm，以便維修檢查。根據設備的不同安裝要求，應考慮預留設備的排風管道。對于光譜類儀器，還應避免直射陽光。
3．6 稱量區
稱量區應為獨立的房間，用于放置精密分析天平，應距離樓道墻面較遠，并有雙層玻璃或窗簾，防塵防震［3］，在土建方面也應考慮防潮及保溫措施，宜設恒溫恒濕系統。建議為化學分析實驗室配置臺面厚度為40 cm的大理石天平臺，以達到三級減震的效果,天平臺須離開墻壁至少1 cm放置。
3．7 高溫及微波消解區
單獨的房間，主要用來擺放干燥箱、高溫爐，應有足夠的電功率。有些高溫爐如化學實驗室的大型干燥箱體積超高或超寬，需注意預留排風罩的尺寸和高度?？稍谠搮^域預留兩個排風口，用于安裝通風柜，并放置需排風的微波消解儀、酸提純器等小型儀器。
3．8 試劑儲藏區
可根據實際情況安排藥品柜，應預留排風口以放置帶抽風試劑柜（保存揮發性藥品）；對于有一定危險性的藥品應設置單獨的危險品存儲柜。
3．9 晶間腐蝕區
基本同樣品處理區，該區域要預留足夠數量的上下水管路和排風管道。
3．10 金相顯微鏡區
屬于金相檢驗范疇，在建筑設計中除考慮防塵、防振外，還需考慮防電磁輻射設計，室內應預留滿足設備要求的電源。
3．11 沖擊、拉伸和硬度檢測區
屬于力學性能實驗范疇，包括常規性能測試（拉伸、壓縮、彎曲、硬度、落錘、沖擊等）、斷裂韌性、高溫松弛、熱疲勞試驗等。該區對通風排風無要求，可在高溫拉伸試驗機旁邊設置一組上下水管路，便于為剛剛檢測完的試樣冷卻降溫。
該區域需估算設備用電功率并考慮安全系數，預留設備電源，保持清潔、干燥、無振動且溫度均勻，在設備安放點的周圍應留出足夠的空間，以便于進行試驗與維修。制作設備預留基礎工程時按照相應安裝地基圖施工，設備的主機應安裝在混凝土的地基上，一般設備應用地腳螺栓調整儀器水平使用，待基礎干燥后（約15 d），再進一步安裝設備。
3．12 實驗用水制備區
該區工作臺面應堅固耐熱，配備能滿足制水設備功率要求的電源線路；供水水龍頭應有隔渣網。制水環境應盡可能避免污染，制備超純水應該達到一定的潔凈度。
3．13 氣體存放區
該區樓板承重應大于300 kg／m2，預留排風口，用于接駁可燃性或危險氣體氣瓶柜。
3．14 預留實驗區
該區域為實驗室發展預留的空間，應在保持清潔的基礎上，將上下水和電源容量留足并在地面預定位置留有地漏即可。